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FCVA

FCVA (Filtered Cathodic Vacuum Arc)

Filtered Cathodic Vacuum Arc는 아크방전(Arc discharge)을 이용하여 음극부의 물질을 증발시켜 이를 제품표면에 증착시키는 장비입니다.
Arc 방전은 이온과 함께 수 ㎛ 크기의 Droplet을 발생시킵니다. 이 Droplet이 박막에 포함되면 표면 조도 등 물성이 저하됩니다.
당사의 FCVA시스템은 자기여과필터(Magnetic filter)를 장착하여 Droplet을 완벽하게 제거합니다. FCVA는 플라즈마 이온만 제품 표면에 도달시켜, 본 시스템으로 코팅된 박막은 표면조도 등 여러 물성이 우수합니다.

FCVA Source 구조 및 원리

아크발생부 (A) : 코팅물질 표면에 아크 발생
필터링부 (B) : Droplet 제거 및 플라즈마 이온 통과
출구부 (C) : 필터링부를 통과한 플라즈마 이온빔을 기판에 증착

Single bent

Double bent

Arc discharge

FCVA Source의 특성

Dual bent duct의 필터링을 통한 Droplet 제거
Ultra-smooth 표면조도
Beam-rastering을 통한 대면적 코팅
플라즈마 빔 안정성을 위한 혁신적인 전극 디자인
상대재에 대한 높은 접합력
높은 재현성과 유지보수의 용이성

Single-Filtering

Double-Filtering (Ultra-Smooth)

Scan area : 2x2 um2 , Ra = 0.02 nm

FCVA Source의 사양

		Single Bent	Double Bent
음극	타겟 재질	Graphite
	크기	ø75 x 25(L) mm
덕트	크기	I.D.ø144mm, O.D.ø165.2mm
	각도	45°
	여과 방식	Single	Double
	자석	Source magnet (SM), Bending magnet (BM), Output magnet(OM), Raster magnet(RM)	Source magnet (SM), Bending magnet (BM), Emission magnet(EM), Output magnet (OM), Raster magnet(RM)