CARBOZEN™ series
플라즈마를 이용한 CVD로 글로우 방전을 이용해 Source gas를
이온화 시켜 고객의 다양한 요구를 만족시키는 코팅 시스템
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CARBOZEN™-C
고순도 및 하드 코팅을 위한 솔루션!!!
CARBOZENTM-C(PECVD : Plasma Enhanced CVD) SERIES는 플라즈마를 이용한 CVD로 글로우 방전을 이용해
Source gas를 이온화 시켜 고객의 다양한 요구를 만족시키는 코팅 시스템입니다.
시스템 사양
| 챔버 크기 | Custom-made |
| 작동 가스 | Mass flow control system Ar · O2 · C2H2 · CH4 · C6H6 · etc |
| 초기 진공도 | ~10-6Torr |
| 바이어스 전원 | 13.56 MH [RF] |
| 장치 운전 | 전자동 / 반자동 |
| 냉각 방식 | Water cooled |
주요 특징
고순도의 코팅막 형성 가능
Source Gas에 따라 다양한 코팅막 형성 가능
대면적 코팅 시의 균일성과 높은 증착률
공정 Control이 쉬우며 대량 처리가 가능
낮은 코팅막 증착 온도
CARBOZEN™-C로 증착한 DLC 코팅막의 특성
| 증착률 | MAx.70nm/min [공정 변수에 의존] |
| 잔류 응력 | ~ 2.0 Gpa |
| 경도 | ~ 18 Gpa |
| 마찰 계수 | ~ 0.1 |
| 표면 조도 | < 0.1 nm |
CARBOZEN™-C의 코팅막 증착 원리
