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FCVA
FCVA (Filtered Cathodic Vacuum Arc)
Filtered Cathodic Vacuum Arcは、アーク放電(Arc discharge)を利用して陰極部の物質を蒸発させ、これを製品の表面に蒸着させる装置です。
Arc放電はイオンと共に数㎛サイズのドロップレット(Droplet)を発生させます。 このドロップレットが薄膜に含まれると表面粗さなどの物性が低下します。
当社のFCVAシステムは、磁気濾過フィルター(Magnetic filter)を装着してドロップレットを完璧に除去します。 FCVAはプラズマイオンのみを製品表面に到達させ、本システムでコーティングされた薄膜は表面粗さなどの様々な物性に優れています。
FCVA Sourceの構造及び原理
アーク発生部(A): コーティング物質の表面にアーク発生
フィルタリング部(B): ドロップレットの除去及びプラズマイオンの通過
出口部(C): フィルタリング部を通過したプラズマイオンビームを基板に蒸着
Single bent
Double bent
Arc discharge
FCVA Sourceの特性
Dual bent ductのフィルタリングによるドロップレットの除
Ultra-smooth表面粗さ
Beam-rasteringによる大面積コーティング
プラズマビームの安定性のための革新的な電極デザイン
相対材に対する高い密着力
高い再現性と容易なメンテナンス
Single-Filtering
Double-Filtering (Ultra-Smooth)
Scan area : 2x2 um2 , Ra = 0.02 nm
FCVA Sourceの仕様
Single Bent | Double Bent | ||
陰極 | ターゲット 材質 | Graphite | |
サイズ | ø75 x 25(L) mm | ||
ダクト | サイズ | I.D.ø144mm, O.D.ø165.2mm | |
角度 | 45° | ||
濾過方式 | Single | Double | |
磁石 | Source magnet (SM), Bending magnet (BM), Output magnet(OM), Raster magnet(RM) |
Source magnet (SM), Bending magnet (BM), Emission magnet(EM), Output magnet (OM), Raster magnet(RM) |