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CARBOZEN™

様々なプラズマソースを組み合わせたハイブリッドコーティングシステム

当社はFCVA(Filtered Cathodic Vacuum Arc)、LIS(Liner Ion Source)、UBM (Unbalanced Magnetron Sputter) SputterなどのPVDプラズマソースからPECVD(Plasma Enhanced CVD)まで主要なプラズマ技術をすべて内在化しています。
CARBOZENTMは、お客様の要望に合わせてプラズマソースの組み合わせを最適化して製作されます。

当社はFCVA(Filtered Cathodic Vacuum Arc)、LIS(Liner Ion Source)、UBM (Unbalanced Magnetron Sputter) SputterなどのPVDプラズマソースからPECVD(Plasma Enhanced CVD)まで主要なプラズマ技術をすべて内在化しています。
CARBOZENTMは、お客様の要望に合わせてプラズマソースの組み合わせを最適化して製作されます。

システム仕様
プラズマソース FCVA (Filtered Cathodic Vacuum Arc)
LIS (Linear Ion Source)
UBM Sputter (Unbalanced Magnetron Sputter)
PECVD (Plasma Enhanced CVD)
チャンバーサイズ Ø600×H600, Ø700×H900, Ø800×H1000,
Ø1000×H1000, Ø1000×H1200, Custom-made
治具システム 2 fold or 3 fold
作動ガス Mass flow control system
Ar · O2 · C2H2 · CH4 · C6H6 · etc
初期真空度 ~10-6Torr
バイアス電源 Pulsed DC
ヒーター Max 250℃ [Optional 450℃]
プロセス 全自動 / 半自動
CARBOZEN-FA
Linear Ion Sourceの長所
  • コーティング膜の蒸着時に安定したイオンエネルギーを維持
  • 大面積製品に対する均一なコーティング膜の形成
  • 低い維持費
  • 相対材に対する高い密着力
  • Ar, O2, N2 ガス等を用いたクリーニング
蒸着率 300nm/min
残留応力 ~ 2.0GPa
硬度 ~ 28GPa
摩擦係数 ~ 0.1
LIS350 LIS650 LIS800 LIS1000 LIS1200
サイズ(mm) W102 × H380 W102 × H680 W102 × H840 W102 × H1044 W102 × H1244
磁石種類 永久磁石
成膜有効ゾーン 340mm 656mm 790mm 990mm 1190mm
成膜均一度 ± 3%
放電電圧 500 ~ 3000V
作動圧力 0.7 ~ 3mTorr
ガス種類 Ar, N2, O2, C2H2, CH4, etc
UBM Sputterの長所
  • 合金、化合物、絶縁膜の蒸着が可能
  • 様々な反応性スパッタリングが可能
  • 蒸着膜の厚さの均一性
  • 広い面積のターゲット利用が可能
  • 低温工程が可能
  • 金属窒化物及び酸化物系のカラーコーティングの成膜が容易
UBM350 UBM650 UBM850 UBM1050 UBM1200
サイズ (mm) W100 × H350 W100 × H680 W120 × H850 W120 × H1050 W120 × H1200
磁石種類 永久磁石
成膜均一度 ± 3%
作動圧力 < 30mTorr
FCVA Sourceの長所
  • Dual bent ductのフィルタリングによるドロップレットの除去
  • Beam-rasteringによる大面積コーティング
  • プラズマビームの安定性を高めた革新的な電極デザイン
  • 相対材に対する高い密着力
  • 高い再現性と容易なメンテナンス
FCVA
FCVA Sourceの仕様
Single Bent Double Ben
陰極 ターゲット材質 Graphite
サイズ ø75 x 25(L) nm
ダクト サイズ I.D.ø144mm, O.D.ø165.2mm
角度 45°
濾過方式 Single Double
磁石 Source magnet (SM), Bending magnet (BM),
Output magnet(OM), Raster magnet(RM)
Source magnet (SM), Bending magnet (BM),
Emission magnet(EM), Output magnet (OM),
Raster magnet(RM)