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Linear Ion Source​

線形イオンガン (Linear Ion Source)

線形イオンガン
(Linear Ion Source)

  • J&L TECHのLISシステムは、closed-driftあるいはanode-layer Ion beam sourceの形式で広い面積に均一なイオンビームを照射することができます。 また、比較的高いエネルギー(50~1500eV)を得ることができ、ほとんどの不活性ガスおよび一部の活性ガスなどで簡単にイオンビームを発生させることができる長所を持っています。

  • LISシステムは、プラズマコーティング工程の中、洗浄(Cleaning)、蒸着(Deposition)、そしてイオン補助蒸着(Ion Beam Assisted Deposition)などに幅広く使われます。
Linear Ion Sourceの特長及び仕様

  • コーティング膜の蒸着時に安定したイオンエネルギーを提供

  • 大面積のコーティング膜の蒸着にも良質のコーティング膜を形成

  • 低い維持費

  • 相対材に対する高い密着力

  • Ar, O2, N2ガス等を用いたCleaning
蒸着率 300nm/min
残留応力 ~ 2.0GPa
硬度 ~ 28GPa
摩擦係数 ~ 0.1
LIS350 LIS650 LIS800 LIS1000 LIS1200
サイズ(mm) W102 × H380 W102 × H680 W102 × H840 W102 × H1044 W102 × H1244
磁石種類 永久磁石
成膜有効ゾーン 340mm 656mm 790mm 990mm 1190mm
成膜均一度 ± 3%
放電電圧 500 ~ 3000V
作動圧力 0.7 ~ 3mTorr
ガス種類 Ar, N2, O2, C2H2, CH4, etc